檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "機械工程系".cdept (精準) and ckeyword.raw="線性光學尺"
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有鑑於目前市售光學尺之製作方法是以曝光顯影或雷射直寫進行生產，但考慮到高精度曝光顯影光罩及裝置價格昂貴，且不適合製作長行程及反射式光學尺，而雷射直寫刻劃光柵結構的速度較慢，無法快速生產等因素，本研究…
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本研究提出一套創新的四自由度共路徑式線性光學尺，具備同時量測面內或面外的位移及旋轉角量測能力。此套線性光學尺結合干涉術、光柵干涉術、分光技術及共路徑式光路等技術優勢進行系統開發，具備高靈敏度、高穩定…
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本研究提出一套「循環式線性光學尺(CLE)」，此套光學尺是由雷射二極體、光柵(G)、側向位移分光鏡(LBS)、偏極化分光鏡(PBS)、反射鏡(M)、偏振片(P)及IC光偵測器所組成，具光路架構簡單、…
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本研究以光柵干涉術作為主要的量測基礎，提出了一套新式的微型化雙繞射共路徑式線性光學尺，其系統架構簡單，架設及校正容易，可用以進行精密的大行程位移量測。我們利用自行設計的稜鏡配合反射式光柵建構出「共路…